Tailoring silicon oxide film properties by tuning the laser beam-to-substrate distance in ArF laser-induced chemical vapor deposition

  1. Szörényi, T.
  2. González, P.
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  4. Pou, J.
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  6. Serra, J.
  7. León, B.
  8. Pérez-Amor, M.
Zeitschrift:
Thin Solid Films

ISSN: 0040-6090

Datum der Publikation: 1994

Ausgabe: 241

Nummer: 1-2

Seiten: 80-83

Art: Artikel

DOI: 10.1016/0040-6090(94)90401-4 GOOGLE SCHOLAR
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