Películas de óxido de silicio producidas mediante procesos químicos (CVD) inducidos por láser de CO2
- FERNANDEZ FERNANDEZ M. DOLORES
- Betty Mireya León Fong Director/a
Universitat de defensa: Universidade de Santiago de Compostela
Any de defensa: 1992
- Mariano Pérez-Martínez Pérez-Amor President/a
- Pío Manuel González Fernández Secretari
- José María Albella Martín Vocal
- Francisco Sánchez Quesada Vocal
- Carmen Nieves Afonso Rodríguez Vocal
Tipus: Tesi
Resum
La presente tesis doctoral trata sobre la producción de películas delgadas de óxido de silicio mediante procesos químicos inducidos por láser de CO2. Se presenta un estudio sistemático del proceso de deposición habiéndose considerado cada uno de los parámetros que intervienen en el mismo y su influencia sobre la velocidad de crecimiento y las propiedades de las películas. Además, aporta un modelo teórico para el calculo de la temperatura en el gas que permite explicar los resultados obtenidos experimentalmente. Por último, presenta un estudio de posibles aplicaciones tecnológicas de las películas obtenidas con este método.