Películas de óxido de silicio producidas mediante procesos químicos (CVD) inducidos por láser de CO2

  1. FERNANDEZ FERNANDEZ M. DOLORES
Supervised by:
  1. Betty Mireya León Fong Director

Defence university: Universidade de Santiago de Compostela

Year of defence: 1992

Committee:
  1. Mariano Pérez-Martínez Pérez-Amor Chair
  2. Pío Manuel González Fernández Secretary
  3. José María Albella Martín Committee member
  4. Francisco Sánchez Quesada Committee member
  5. Carmen Nieves Afonso Rodríguez Committee member

Type: Thesis

Teseo: 33570 DIALNET

Abstract

La presente tesis doctoral trata sobre la producción de películas delgadas de óxido de silicio mediante procesos químicos inducidos por láser de CO2. Se presenta un estudio sistemático del proceso de deposición habiéndose considerado cada uno de los parámetros que intervienen en el mismo y su influencia sobre la velocidad de crecimiento y las propiedades de las películas. Además, aporta un modelo teórico para el calculo de la temperatura en el gas que permite explicar los resultados obtenidos experimentalmente. Por último, presenta un estudio de posibles aplicaciones tecnológicas de las películas obtenidas con este método.