The role of silane and N2O in the CO2 laser-CVD of silicon oxide films

  1. Fernández, D.
  2. González, P.
  3. Pou, J.
  4. García, E.
  5. Serra, J.
  6. León, B.
  7. Pérez-Amor, M.
Zeitschrift:
Applied Surface Science

ISSN: 0169-4332

Datum der Publikation: 1993

Ausgabe: 69

Nummer: 1-4

Seiten: 281-284

Art: Artikel

DOI: 10.1016/0169-4332(93)90519-H GOOGLE SCHOLAR
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