Tailoring silicon oxide film properties by tuning the laser beam-to-substrate distance in ArF laser-induced chemical vapor deposition

  1. Szörényi, T.
  2. González, P.
  3. Garcá, E.
  4. Pou, J.
  5. Fernández, D.
  6. Serra, J.
  7. León, B.
  8. Pérez-Amor, M.
Revista:
Thin Solid Films

ISSN: 0040-6090

Ano de publicación: 1994

Volume: 241

Número: 1-2

Páxinas: 80-83

Tipo: Artigo

DOI: 10.1016/0040-6090(94)90401-4 GOOGLE SCHOLAR
Fonte de datos: Scopus