Finite element simulation for ultraviolet excimer laser processing of patterned Si/SiGe/Si(100) heterostructures

  1. Conde, J.C.
  2. Martín, E.
  3. Chiussi, S.
  4. Gontad, F.
  5. Serra, C.
  6. González, P.
Revista:
Applied Physics Letters

ISSN: 0003-6951

Año de publicación: 2010

Volumen: 97

Número: 1

Tipo: Artículo

DOI: 10.1063/1.3452341 GOOGLE SCHOLAR
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