Gas mixture dependence of the LCVD of SiO2 films using an ArF laser

  1. Szörényi, T.
  2. González, P.
  3. Fernández, D.
  4. Pou, J.
  5. León, B.
  6. Pérez-Amor, M.
Zeitschrift:
Applied Surface Science

ISSN: 0169-4332

Datum der Publikation: 1990

Ausgabe: 46

Nummer: 1-4

Seiten: 206-209

Art: Artikel

DOI: 10.1016/0169-4332(90)90143-N GOOGLE SCHOLAR
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