Gas mixture dependence of the LCVD of SiO2 films using an ArF laser

  1. Szörényi, T.
  2. González, P.
  3. Fernández, D.
  4. Pou, J.
  5. León, B.
  6. Pérez-Amor, M.
Aldizkaria:
Applied Surface Science

ISSN: 0169-4332

Argitalpen urtea: 1990

Alea: 46

Zenbakia: 1-4

Orrialdeak: 206-209

Mota: Artikulua

DOI: 10.1016/0169-4332(90)90143-N GOOGLE SCHOLAR
Datuen iturria: Scopus