The role of silane and N2O in the CO2 laser-CVD of silicon oxide films

  1. Fernández, D.
  2. González, P.
  3. Pou, J.
  4. García, E.
  5. Serra, J.
  6. León, B.
  7. Pérez-Amor, M.
Revista:
Applied Surface Science

ISSN: 0169-4332

Ano de publicación: 1993

Volume: 69

Número: 1-4

Páxinas: 281-284

Tipo: Artigo

DOI: 10.1016/0169-4332(93)90519-H GOOGLE SCHOLAR
Fonte de datos: Scopus