Hydrogen incorporation in silicon oxide films deposited by ArF laser-induced chemical vapor deposition
- Parada, E.G.
- González, P.
- Serra, J.
- León, B.
- Pérez-Amor, M.
- da Silva, M.F.
- Wolters, H.
- Soares, J.C.
Zeitschrift:
Journal of Non-Crystalline Solids
ISSN: 0022-3093
Datum der Publikation: 1995
Ausgabe: 187
Seiten: 75-80
Art: Artikel