Silica deposition by excimer-laser-induced chemical vapour deposition in perpendicular configuration

  1. León, B.
  2. Klumpp, A.
  3. González, P.
  4. Parada, E.G.
  5. Fernández, D.
  6. Pou, J.
  7. Serra, J.
  8. Sigmund, H.
  9. Pérez-Amor, M.
Revista:
Advanced Materials for Optics and Electronics

ISSN: 1057-9257

Any de publicació: 1996

Volum: 6

Número: 2

Pàgines: 83-92

Tipus: Article

DOI: 10.1002/(SICI)1099-0712(199603)6:2<83::AID-AMO225>3.3.CO;2-G GOOGLE SCHOLAR
Font de les dades: Scopus