Oxidation processes in hydrogenated amorphous silicon nitride films deposited by ArF laser-induced CVD at low temperatures

  1. Banerji, N.
  2. Serra, J.
  3. González, P.
  4. Chiussi, S.
  5. Parada, E.
  6. León, B.
  7. Pérez-Amor, M.
Revista:
Thin Solid Films

ISSN: 0040-6090

Ano de publicación: 1998

Volume: 317

Número: 1-2

Páxinas: 214-218

Tipo: Artigo

DOI: 10.1016/S0040-6090(97)00621-4 GOOGLE SCHOLAR
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