Analysis of excimer laser annealing of amorphous SiGe on La 2 O 3 //Si structures

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Zeitschrift:
Applied Surface Science

ISSN: 0169-4332

Datum der Publikation: 2007

Ausgabe: 253

Nummer: 19

Seiten: 7957-7963

Art: Artikel

DOI: 10.1016/J.APSUSC.2007.02.063 GOOGLE SCHOLAR

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