A growth rate, structure and surface morphology study of Si1-x-yGexCy films deposited by ArF-LCVD in tilted geometry

  1. López, E.
  2. Chiussi, S.
  3. Kosch, U.
  4. González, P.
  5. Serra, J.
  6. Serra, C.
  7. León, B.
Zeitschrift:
Vacuum

ISSN: 0042-207X

Datum der Publikation: 2008

Ausgabe: 82

Nummer: 12

Seiten: 1525-1528

Art: Artikel

DOI: 10.1016/J.VACUUM.2008.03.018 GOOGLE SCHOLAR
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