FEM for modelling 193 nm excimer laser treatment of SiO2/Si/Si(1-x)Gex heterostructures on SOI substrates
- Conde, J.C.
- Martín, E.
- Chiussi, S.
- Gontad, F.
- González, P.
ISSN: 1862-6351, 1610-1642
Datum der Publikation: 2011
Ausgabe: 8
Nummer: 3
Seiten: 936-939
Art: Artikel