193 nm Excimer laser processing of Si/Ge/Si(100) micropatterns
- Gontad, F.
- Conde, J.C.
- Chiussi, S.
- Serra, C.
- González, P.
Zeitschrift:
Applied Surface Science
ISSN: 0169-4332
Datum der Publikation: 2016
Ausgabe: 362
Seiten: 217-220
Art: Artikel