ArF laser CVD of hydrogenated amorphous silicon: The role of buffer gases

  1. Dietrich, T.R.
  2. Chiussi, S.
  3. Stafast, H.
  4. Comes, F.J.
Revista:
Applied Physics A Solids and Surfaces

ISSN: 0721-7250,  1432-0630

Año de publicación: 1989

Volumen: 48

Número: 5

Páginas: 405-414

Tipo: Artículo

DOI: 10.1007/BF00619710 GOOGLE SCHOLAR

Objetivos de desarrollo sostenible

Fuente de los datos: Scopus