GAS-MIXTURE DEPENDENCE OF THE LCVD OF SIO2-FILMS USING AN ARF LASER

  1. SZORENYI, T
  2. GONZALEZ, P
  3. FERNANDEZ, D
  4. POU, J
  5. LEON, B
  6. PEREZAMOR, M
Colección de libros:
SURFACE PROCESSING AND LASER ASSISTED CHEMISTRY
  1. BOYD, IW (coord.)
  2. FOGARASSY, E (coord.)
  3. STUKE, M (coord.)

ISBN: 0-444-88947-7

Ano de publicación: 1990

Volume: 18

Páxinas: 206-209

Congreso: SYMP AT THE 1990 SPRING CONF OF THE EUROPEAN MATERIALS RESEARCH SOC : SURFACE PROCESSING AND LASER ASSISTED CHEMISTRY

Tipo: Achega congreso

GOOGLE SCHOLAR
Fonte de datos: WoS