Gas mixture dependence of the LCVD of SiO2 films using an ArF laser
- Szörényi, T.
- González, P.
- Fernández, D.
- Pou, J.
- León, B.
- Pérez-Amor, M.
ISSN: 0169-4332
Ano de publicación: 1990
Volume: 46
Número: 1-4
Páxinas: 206-209
Tipo: Artigo
ISSN: 0169-4332
Ano de publicación: 1990
Volume: 46
Número: 1-4
Páxinas: 206-209
Tipo: Artigo