Study of the gas-phase parameters affecting the silicon-oxide film deposition induced by an ArF laser

  1. González, P.
  2. Fernández, D.
  3. Pou, J.
  4. García, E.
  5. Serra, J.
  6. León, B.
  7. Pérez-Amor, M.
  8. Szörényi, T.
Revista:
Applied Physics A Solids and Surfaces

ISSN: 0721-7250,  1432-0630

Año de publicación: 1993

Volumen: 57

Número: 2

Páginas: 181-185

Tipo: Artículo

DOI: 10.1007/BF00331442 GOOGLE SCHOLAR
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