The role of the buffer gas in the ArF laser chemical vapour deposition of silicon oxide

  1. González, P.
  2. Pou, J.
  3. Fernández, D.
  4. García, E.
  5. Serra, J.
  6. León, B.
  7. Pérez-Amor, M.
Zeitschrift:
Thin Solid Films

ISSN: 0040-6090

Datum der Publikation: 1993

Ausgabe: 230

Nummer: 1

Seiten: 35-38

Art: Artikel

DOI: 10.1016/0040-6090(93)90343-N GOOGLE SCHOLAR
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