The role of the buffer gas in the ArF laser chemical vapour deposition of silicon oxide

  1. González, P.
  2. Pou, J.
  3. Fernández, D.
  4. García, E.
  5. Serra, J.
  6. León, B.
  7. Pérez-Amor, M.
Aldizkaria:
Thin Solid Films

ISSN: 0040-6090

Argitalpen urtea: 1993

Alea: 230

Zenbakia: 1

Orrialdeak: 35-38

Mota: Artikulua

DOI: 10.1016/0040-6090(93)90343-N GOOGLE SCHOLAR
Datuen iturria: Scopus