Silica deposition by excimer-laser-induced chemical vapour deposition in perpendicular configuration

  1. León, B.
  2. Klumpp, A.
  3. González, P.
  4. Parada, E.G.
  5. Fernández, D.
  6. Pou, J.
  7. Serra, J.
  8. Sigmund, H.
  9. Pérez-Amor, M.
Revista:
Advanced Materials for Optics and Electronics

ISSN: 1057-9257

Ano de publicación: 1996

Volume: 6

Número: 2

Páxinas: 83-92

Tipo: Artigo

DOI: 10.1002/(SICI)1099-0712(199603)6:2<83::AID-AMO225>3.3.CO;2-G GOOGLE SCHOLAR
Fonte de datos: Scopus