Influence of the substrate temperature on silicon-carbon thin films deposited from SiH4 and C2H4 by excimer lamp-CVD

  1. Redondas, X.
  2. González, P.
  3. León, B.
  4. Pérez-Amor, M.
Revista:
Thin Solid Films

ISSN: 0040-6090

Ano de publicación: 1998

Volume: 317

Número: 1-2

Páxinas: 112-115

Tipo: Artigo

DOI: 10.1016/S0040-6090(97)00601-9 GOOGLE SCHOLAR
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