Growth and modification of thin a-Si:H/a-Ge:H bi-layers to sacrificial c-SiGe alloys through ArF-Excimer laser assisted processing

  1. Chiussi, S.
  2. Gontad, F.
  3. Rodríguez, R.
  4. Serra, C.
  5. Serra, J.
  6. León, B.
  7. Sulima, T.
  8. Höllt, L.
  9. Eisele, I.
Revista:
Applied Surface Science

ISSN: 0169-4332

Ano de publicación: 2008

Volume: 254

Número: 19

Páxinas: 6030-6033

Tipo: Artigo

DOI: 10.1016/J.APSUSC.2008.02.183 GOOGLE SCHOLAR