193 nm Excimer laser processing of Si/Ge/Si(100) micropatterns

  1. Gontad, F.
  2. Conde, J.C.
  3. Chiussi, S.
  4. Serra, C.
  5. González, P.
Revista:
Applied Surface Science

ISSN: 0169-4332

Ano de publicación: 2016

Volume: 362

Páxinas: 217-220

Tipo: Artigo

DOI: 10.1016/J.APSUSC.2015.11.240 GOOGLE SCHOLAR
Fonte de datos: Scopus