ArF laser CVD of hydrogenated amorphous silicon: The role of buffer gases
- Dietrich, T.R.
- Chiussi, S.
- Stafast, H.
- Comes, F.J.
ISSN: 0721-7250, 1432-0630
Ano de publicación: 1989
Volume: 48
Número: 5
Páxinas: 405-414
Tipo: Artigo
Revista:
Applied Physics A Solids and Surfaces