ArF laser CVD of hydrogenated amorphous silicon: The role of buffer gases

  1. Dietrich, T.R.
  2. Chiussi, S.
  3. Stafast, H.
  4. Comes, F.J.
Revista:
Applied Physics A Solids and Surfaces

ISSN: 0721-7250,  1432-0630

Ano de publicación: 1989

Volume: 48

Número: 5

Páxinas: 405-414

Tipo: Artigo

DOI: 10.1007/BF00619710 GOOGLE SCHOLAR

Obxectivos de Desenvolvemento Sustentable

Fonte de datos: Scopus