The role of the buffer gas in the ArF laser chemical vapour deposition of silicon oxide

  1. González, P.
  2. Pou, J.
  3. Fernández, D.
  4. García, E.
  5. Serra, J.
  6. León, B.
  7. Pérez-Amor, M.
Revista:
Thin Solid Films

ISSN: 0040-6090

Ano de publicación: 1993

Volume: 230

Número: 1

Páxinas: 35-38

Tipo: Artigo

DOI: 10.1016/0040-6090(93)90343-N GOOGLE SCHOLAR

Obxectivos de Desenvolvemento Sustentable

Fonte de datos: Scopus