Improvement of silicon oxide film properties by ultraviolet excimer lamp annealing

  1. Parada, E.G.
  2. González, P.
  3. Serra, J.
  4. León, B.
  5. Pérez-Amor, M.
  6. Flicstein, J.
  7. Devine, R.A.B.
Revista:
Applied Surface Science

ISSN: 0169-4332

Any de publicació: 1995

Volum: 86

Número: 1-4

Pàgines: 294-298

Tipus: Article

DOI: 10.1016/0169-4332(94)00433-1 GOOGLE SCHOLAR
Font de les dades: Scopus