Improvement of silicon oxide film properties by ultraviolet excimer lamp annealing

  1. Parada, E.G.
  2. González, P.
  3. Serra, J.
  4. León, B.
  5. Pérez-Amor, M.
  6. Flicstein, J.
  7. Devine, R.A.B.
Aldizkaria:
Applied Surface Science

ISSN: 0169-4332

Argitalpen urtea: 1995

Alea: 86

Zenbakia: 1-4

Orrialdeak: 294-298

Mota: Artikulua

DOI: 10.1016/0169-4332(94)00433-1 GOOGLE SCHOLAR
Datuen iturria: Scopus