Crystallisation of 500nm thick A-SiGe:H films through ArF-Excimer Laser radiation

  1. Chiussi, S.
  2. Fabbri, F.
  3. Fornarini, L.
  4. González, P.
  5. León, B.
  6. Martelli, S.
  7. López, E.
  8. Serra, C.
  9. Serra, J.
Actes:
Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering

ISSN: 0277-786X

Any de publicació: 2003

Volum: 5147

Pàgines: 204-211

Tipus: Aportació congrés

DOI: 10.1117/12.537582 GOOGLE SCHOLAR
Font de les dades: Scopus