Crystallisation of 500nm thick A-SiGe:H films through ArF-Excimer Laser radiation

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Actas:
Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering

ISSN: 0277-786X

Año de publicación: 2003

Volumen: 5147

Páginas: 204-211

Tipo: Aportación congreso

DOI: 10.1117/12.537582 GOOGLE SCHOLAR
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