Crystallisation of 500nm thick A-SiGe:H films through ArF-Excimer Laser radiation

  1. Chiussi, S.
  2. Fabbri, F.
  3. Fornarini, L.
  4. González, P.
  5. León, B.
  6. Martelli, S.
  7. López, E.
  8. Serra, C.
  9. Serra, J.
Actes de conférence:
Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering

ISSN: 0277-786X

Année de publication: 2003

Volumen: 5147

Pages: 204-211

Type: Communication dans un congrès

DOI: 10.1117/12.537582 GOOGLE SCHOLAR
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