Role of silylene in the deposition of hydrogenated amorphous silicon

  1. Dietrich, T.R.
  2. Chiussi, S.
  3. Marek, M.
  4. Roth, A.
  5. Comes, F.J.
Revista:
Journal of Physical Chemistry

ISSN: 0022-3654

Ano de publicación: 1991

Volume: 95

Número: 23

Páxinas: 9302-9310

Tipo: Artigo

DOI: 10.1021/J100176A050 GOOGLE SCHOLAR
Fonte de datos: Scopus