ArF excimer laser epitaxy of Si x Ge 1-x alloys studied by XRD and XPS

  1. Larciprete, R.
  2. Willmott, P.
  3. Martelli, S.
  4. Cesile, M.C.
  5. Borsella, E.
  6. Chiussi, S.
  7. González, P.
  8. León, B.
Zeitschrift:
Applied Surface Science

ISSN: 0169-4332

Datum der Publikation: 1996

Ausgabe: 106

Seiten: 179-185

Art: Artikel

DOI: 10.1016/S0169-4332(96)00430-8 GOOGLE SCHOLAR