Crystallisation of 500nm thick A-SiGe:H films through ArF-Excimer Laser radiation

  1. Chiussi, S.
  2. Fabbri, F.
  3. Fornarini, L.
  4. González, P.
  5. León, B.
  6. Martelli, S.
  7. López, E.
  8. Serra, C.
  9. Serra, J.
Actas:
Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering

ISSN: 0277-786X

Ano de publicación: 2003

Volume: 5147

Páxinas: 204-211

Tipo: Achega congreso

DOI: 10.1117/12.537582 GOOGLE SCHOLAR
Fonte de datos: Scopus