Influence of the substrate temperature on the structure of Ge containing thin films produced by ArF laser induced chemical vapour deposition

  1. López, E.
  2. Chiussi, S.
  3. González, P.
  4. Serra, J.
  5. León, B.
Revista:
Applied Surface Science

ISSN: 0169-4332

Any de publicació: 2005

Volum: 248

Número: 1-4

Pàgines: 108-112

Tipus: Aportació congrés

DOI: 10.1016/J.APSUSC.2005.03.091 GOOGLE SCHOLAR
Font de les dades: Scopus