Influence of the substrate temperature on the structure of Ge containing thin films produced by ArF laser induced chemical vapour deposition

  1. López, E.
  2. Chiussi, S.
  3. González, P.
  4. Serra, J.
  5. León, B.
Revista:
Applied Surface Science

ISSN: 0169-4332

Año de publicación: 2005

Volumen: 248

Número: 1-4

Páginas: 108-112

Tipo: Aportación congreso

DOI: 10.1016/J.APSUSC.2005.03.091 GOOGLE SCHOLAR
Fuente de los datos: Scopus