Influence of the substrate temperature on the structure of Ge containing thin films produced by ArF laser induced chemical vapour deposition

  1. López, E.
  2. Chiussi, S.
  3. González, P.
  4. Serra, J.
  5. León, B.
Zeitschrift:
Applied Surface Science

ISSN: 0169-4332

Datum der Publikation: 2005

Ausgabe: 248

Nummer: 1-4

Seiten: 108-112

Art: Konferenz-Beitrag

DOI: 10.1016/J.APSUSC.2005.03.091 GOOGLE SCHOLAR
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