Dopant profile engineering using ArF excimer laser, flash lamp and spike annealing for junction formation

  1. Scheit, A.
  2. Lenke, T.
  3. Bolze, D.
  4. Chiussi, S.
  5. Stefanov, S.
  6. Gonzalez, P.
  7. Schumann, T.
  8. Skorupa, W.
Actes:
Proceedings of the International Conference on Ion Implantation Technology

ISBN: 978-1-4799-5212-0

Any de publicació: 2014

Tipus: Aportació congrés

DOI: 10.1109/IIT.2014.6940000 GOOGLE SCHOLAR
Font de les dades: Scopus