Dopant profile engineering using ArF excimer laser, flash lamp and spike annealing for junction formation

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Actas:
Proceedings of the International Conference on Ion Implantation Technology

ISBN: 978-1-4799-5212-0

Año de publicación: 2014

Tipo: Aportación congreso

DOI: 10.1109/IIT.2014.6940000 GOOGLE SCHOLAR
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