Dopant profile engineering using ArF excimer laser, flash lamp and spike annealing for junction formation

  1. Scheit, A.
  2. Lenke, T.
  3. Bolze, D.
  4. Chiussi, S.
  5. Stefanov, S.
  6. Gonzalez, P.
  7. Schumann, T.
  8. Skorupa, W.
Actes de conférence:
Proceedings of the International Conference on Ion Implantation Technology

ISBN: 978-1-4799-5212-0

Année de publication: 2014

Type: Communication dans un congrès

DOI: 10.1109/IIT.2014.6940000 GOOGLE SCHOLAR
La source de données: Scopus