Effects of deposition temperature on properties of r.f. glow discharge amorphous silicon thin films

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Revista:
Thin Solid Films

ISSN: 0040-6090

Año de publicación: 1991

Volumen: 205

Número: 2

Páginas: 140-145

Tipo: Artículo

DOI: 10.1016/0040-6090(91)90295-9 GOOGLE SCHOLAR
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