Geometrical factors affecting the CO2 laser chemical vapour deposition of silicon oxide films in parallel configuration

  1. Fernández, D.
  2. González, P.
  3. Pou, J.
  4. García, E.
  5. León, B.
  6. Pérez-Amor, M.
Revista:
Thin Solid Films

ISSN: 0040-6090

Ano de publicación: 1992

Volume: 220

Número: 1-2

Páxinas: 100-105

Tipo: Artigo

DOI: 10.1016/0040-6090(92)90555-P GOOGLE SCHOLAR
Fonte de datos: Scopus