ArF excimer laser epitaxy of Si x Ge 1-x alloys studied by XRD and XPS

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Revista:
Applied Surface Science

ISSN: 0169-4332

Ano de publicación: 1996

Volume: 106

Páxinas: 179-185

Tipo: Artigo

DOI: 10.1016/S0169-4332(96)00430-8 GOOGLE SCHOLAR
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