Influence of the substrate temperature on the structure of Ge containing thin films produced by ArF laser induced chemical vapour deposition

  1. López, E.
  2. Chiussi, S.
  3. González, P.
  4. Serra, J.
  5. León, B.
Revista:
Applied Surface Science

ISSN: 0169-4332

Ano de publicación: 2005

Volume: 248

Número: 1-4

Páxinas: 108-112

Tipo: Achega congreso

DOI: 10.1016/J.APSUSC.2005.03.091 GOOGLE SCHOLAR
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